Park Systems扩展FX大型样品AFM产品线，为下一代工业创新注入动力

韩国首尔2025年2月19日 /美通社/ -- 全球原子力显微镜（AFM）领军企业Park Systems在2025年韩国半导体展览会上推出了扩展版FX大型样品AFM系列产品。 继Park FX200在2024年西部半导体展览会（SEMICON West）首次亮相并随后在德国、日本和韩国市场获得强烈反响之后，Park Systems又推出了用于300毫米晶圆分析的Park FX300，以及集成了红外（IR）光谱技术的Park FX200 IR和FX300 IR，进一步拓展了大型AFM技术的边界。 

Park FX大型样品AFM系列：从左至右依次为FX200 IR、FX300、FX300 IR

随着300毫米晶圆成为半导体行业的标准，Park FX300应运而生，专为那些追求高精度分析但又不希望采用复杂全自动在线系统的用户而设计。 对于正考虑在过渡到在线制造之前引入AFM的公司来说，Park FX300无疑是理想的解决方案。

Park FX300针对工业和研究应用进行了优化，有望成为行业变革者，为众多AFM技术部署先进的分析和质量控制能力。 它配备了多项专业功能，如用于半导体后处理过程中铜焊盘长距离平整度测量的滑动平台、用于晶圆级封装中样品精确对准的旋转平台，以及用于增强样品可视化的离轴光学系统。 此外，其风机过滤单元（FFU）可确保受控的无污染环境，非常适用于洁净室应用。

Park Systems还推出了FX200 IR和FX300 IR，将其AFM技术扩展至纳米级化学分析领域。 通过将傅里叶变换红外光谱（FTIR）与AFM相结合，这些型号利用光诱导力显微镜（PiFM）技术，实现了小于5 nm的空间分辨率的化学识别。 这一突破使研究人员和工程师能够在不损坏晶圆表面的前提下分析纳米级结构的化学成分，为半导体、高分子材料和生命科学领域的材料表征开辟了新的可能性。

FX200 IR和FX300 IR适用于从小尺寸样品到200 mm或300 mm晶圆的检测，能够实现高分辨率红外光谱成像，为材料成分和分子相互作用提供前所未有的深入解析。 凭借其在超精细尺度上捕捉化学键合信息的能力，该技术以无与伦比的精度提升了半导体缺陷分析、高分子研究和先进材料表征。

秉承Park Systems最大限度提高效率并尽量减少人工干预的理念，FX大型样品AFM系列通过自动化的探针识别与更换、用于探针状态监测的二维码系统，以及AI驱动的激光对准功能，提升了可用性，实现了流畅操作。 StepScan™功能通过实现预定义坐标下的自动化连续测量，进一步提高了效率，使研究人员能够以最少的人工干预分析表面形貌、电气、机械和磁性特性。 特别是在红外（IR）应用中，激光对准常常是一个重大挑战，而该系统实现了这一过程的完全自动化，使得高分辨率化学分析比以往任何时候都更容易实现。

Park Systems执行副总裁Sang-Joon Cho博士强调了公司对技术领导地位的承诺：“Park Systems在精密测量和自动化领域拥有数十年的专业知识和创新经验，我们将这些经验融入其中，对FX大型样品AFM系列进行了优化，使其能够在工业和研究领域提供最高水平的晶圆分析。 Park FX300和nano-IR系统正在重新定义工业级和研究级AFM应用的界限，为我们的客户提供最先进的AFM技术，共同塑造纳米科学的未来。”

凭借最新的创新成果，Park Systems继续巩固其在原子力显微镜领域的全球领先地位，为不断变化的半导体和纳米科学研究需求提供行业领先的解决方案。